MP-819 工藝特征

　　· 不含鎘、鉛、汞、鉍、鉈、砷及其他任何重金屬

　　· 不怕鋅離子影響，特別適合鋁材質處理

　　· 良好的潤滑性及耐磨損性能

　　· 適合焊接

　　· 穩定性好，壽命長

　　· 外觀光亮、穩定、不隨鍍液周期變化

　　· 特別適合鋁合金散熱器

　　MP-819 是一種先進的化學鎳工藝，它用于許多工程和功能性應用上，可產生性能優異的鍍層。本產品可保持溶液良好的穩定性及快速的電鍍速率，可在經過適當預處理的表面上產生少孔甚至無孔的鍍層。本工藝適用于非常廣泛的電鍍底材，可在其上產生均勻的鎳磷合金鍍層。這些底材包括：鋁合金，不銹鋼，碳，合金鋼，銅合金等，以及一些非電導材料。

　　MP-819 適用于有優良防腐性要求的電鍍。主要包適電子工業，石油氣，印刷，由于它耐污染性良好。

　　MP-819 工藝滿足MIL-C-26074和 AMS 2404 的技術指標。本工藝可提供非自我調節pH工藝。MP-819A和 MP-819M用作開缸;MP-819A和 MP-819B 用于補充，pH用氨水或稀碳酸鉀溶液調節。

　　物理性質

　　磷含量，wt%： 6.0~9.0

　　熔點(共晶)，℃： 880

　　熱膨脹系數，um/m/℃： 13~15

　　熱導性，cal/cm/s/℃： 0.0105

　　電阻，微歐姆-cm： 50~100

　　磁性 弱磁性

　　硬度

　　knoop 硬度kg/mm2

　　50g 裝載, 76.2μm鍍層, 鋼

　　電鍍后 520

　　熱處理后

　　4小時, 177℃ 500~550

　　1小時, 400℃ 850~950

　　耐磨性能

　　Taber 研磨器耐磨試驗

　　重量損失指數, mg/1000次循環操作

　　電鍍后 15~18

　　開缸

　　添加物

　　MP-819A 60 mL/L

　　MP-819M 150 mL/L

　　去離子水或蒸餾水 余量

　　開缸

　　用去離子或蒸餾水徹底清洗鍍槽。

　　在槽中加入部分去離子或蒸餾水。

　　邊攪拌(空氣或機械)邊加入所需量的MP-819A 和 MP-819M，加水至工作體積。

　　加熱溶液至90 ~92℃，測量溶液pH值，如有必要，用50% 稀氨水或碳酸鉀調節。通常MP-819 工藝在pH值較低下開缸，若電鍍前未進行pH的調節，則會導致鍍層模糊甚至反應不起動。

　　5.A和B用于不加1:1;

　　溶液操作

　　* 對于鋁合金為pH調高至5.2

　　**也可在極低負載(0.25 dm2 / L)下操作

　　施鍍

　　經過適當準備后, 把工件浸入工作液中至達到所需厚度。

　　攪拌

　　水平桿攪拌或低壓空氣攪拌。攪拌程度取決于裝載量及溫度。

　　溫度

　　高溫可提高鍍速，當需要鍍層較厚時，建議采用低溫攪拌以防出現針孔。不工作時，不要使工作液維持在操作溫度，否則會使還原劑和穩定劑分解。不要使溫度超過93℃

　　過濾

　　建議采用連續過濾。用5微米的過濾介質。若連續過濾不可行，則工作結束后，冷卻溶液，然后，在開始第二天的工作前，用3微米的過濾介質分批過濾。

　　工作液性能

　　鍍速，μm/小時, 88℃ 12~18

　　溶液壽命, 循環次數*

　　鋼 7~8

　　鋁

　　覆蓋能力，μm2/L

　　5個金屬循環 1148.8

　　10個金屬循環 2212.7

　　* 當補充金屬濃度達到最初的5.8g/L鎳, 為一個金屬循環。

　　設備

　　適合于熱酸性化學鎳溶液的設備都適用于MP-819 鍍液。

　　使用0.2~0.3mm 厚PVC襯里的槽可防止鎳沉積在不銹鋼槽上。建議采用PP 或襯PP的槽。可用帶有過熱保護的蒸汽式TEFLON 特級線圈加熱器或316型不銹鋼電子浸入式加熱器。建議采用低溶液水平槽。且有內置過濾器。采用低壓潔凈空氣攪拌。

　　采用通風排出水蒸汽和攪拌及溶液汽化產生的薄霧。薄霧中可能含有鎳鹽。不工作時，工作液應蓋上蓋子，并使之在操作溫度或接近操作溫度。

　　廢物處理

　　MP-819工作液為酸性，含有鎳。廢液排放前，應將鎳從溶液中除掉，并調節pH值在限定范圍內。確保排放的廢液中pH及鎳含量符合當地規定。

聲明

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