啞光化學鎳 化學珍珠鎳 緞面化學鎳
LP 805 工藝特征
1.溶液穩(wěn)定性好，對復雜零件具有優(yōu)異的均鍍能力。
2.沉積速度快，達到13-20μm/hr, 提高了生產(chǎn)效率。
3.鍍層外觀啞光潔白,鍍層附著力高，鍍層孔隙率低。
4. 優(yōu)異的耐磨性能，經(jīng)熱處理鍍層硬度可達900-1000 VHN100。
LP 805是一種啞光化學鍍鎳工藝，專門設(shè)計應用于功能性工程上，LP 805 也應用在 EMI/RFI 領(lǐng)域，可在化學鍍銅的基礎(chǔ)上再鍍上一層均勻的鎳磷合金，它可以保護下面的銅層不會被氧化。LP 805具有很高的電鍍后硬度值（650-700HV100）接近鎳硼合金所提供超級的耐磨特性，它與其它的化學鍍鎳磷合金有很大的區(qū)別，LP 805具有很高的熔點溫度（大約 1204℃），此LP 805工藝具有高硬度、低應力、高熔點溫度和良好的導電率，使它可以在電子部件上應用，啞白色鍍層低的反光率，易于激光焊。
LP 805 是一款比較穩(wěn)定的工藝。805A和805B用作開缸；805A和805C用于補充(1:1)。
開缸
添加物
LP 805A 100ml/L
LP 805B 100-150ml/L
去離子水或蒸餾水 余量
開缸
1. 用去離子或蒸餾水徹底清洗鍍槽。
2. 在槽中加入部分去離子或蒸餾水。
3. 邊攪拌（空氣或機械）邊加入所需量的LP 805A 和 LP 805B，加水至工作體積。
4. 加熱溶液至80 ~88℃，測量溶液pH值，調(diào)至7.0-7.5后正常生產(chǎn)。
溶液操作
溶液參數(shù) 典型范圍 **值
溫度，℃ 80~88 85
pH 7.0~8.0 7.5
溶液負載, dm2/L 0.61~1.5 1.0
鎳濃度, g/L 5.2~6.0 5.8
施鍍
經(jīng)過適當準備后, 把工件浸入工作液中至達到所需厚度。
攪拌
水平桿攪拌或低壓空氣攪拌。攪拌程度取決于裝載量及溫度。
溫度
高溫可提高鍍速，當需要鍍層較厚時，建議采用低溫攪拌以防出現(xiàn)麻點。不工作時，不要使工作液維持在操作溫度，否則會使還原劑和穩(wěn)定劑分解。不要使溫度超過88℃
過濾
建議采用連續(xù)過濾。用5微米的過濾介質(zhì)。若連續(xù)過濾不可行，則工作結(jié)束后，冷卻溶液，然后，在開始第二天的工作前，用3微米的過濾介質(zhì)分批過濾。
設(shè)備
適合于熱堿性化學鎳溶液的設(shè)備都適用于LP 805 鍍液。
使用0.2~0.3mm 厚PVC襯里的槽可防止鎳沉積在不銹鋼槽上。建議采用PP 或襯PP的槽。可用帶有過熱保護的蒸汽式TEFLON 特級線圈加熱器或316型不銹鋼電子浸入式加熱器。建議采用低溶液水平槽。且有內(nèi)置過濾器。采用低壓潔凈空氣攪拌。
采用通風排出水蒸汽和攪拌及溶液汽化產(chǎn)生的薄霧。薄霧中可能含有鎳鹽。不工作時，工作液應蓋上蓋子，并使之在操作溫度或接近操作溫度。
槽液維護：
1. 分析槽液的鎳金屬含量
2. 添加補充劑805A 與805C以維持槽液的鎳金屬含量為 5.8 g/L,下面給出了鎳金屬濃度的分析方法。建議每天工作結(jié)束時，槽液的濃度允許低于10%，然后第二天工作前補充添加。
總鎳 (Ni2+) 含量之分析：
1) 取試液5毫升。
2) 加100毫升純水。
3) 加10毫升氨水。
4) 加0.2克紫脲酸胺指示劑 。
5) 用0.05N EDTA溶液滴定由棕色變紫色為終點。
總鎳含量 ( g/L ) = 所用0.05N EDTA 的毫升數(shù) (a) x0 .587
補充劑添加對照表( 例：1000升)
0.05 EDTA (ml) | 濃度 (%) | 鎳 (g/L) | 805A 劑(L) | 805C 劑(L) |
10.2 | 100 | 6.0 | 0 | 0 |
9.7 | 95 | 5.7 | 5 | 5 |
9.2 | 90 | 5.4 | 10 | 10 |
8.7 | 85 | 5.1 | 15 | 15 |
8.3 | 80 | 4.8 | 20 | 20 |
注意事項： 以上數(shù)據(jù)根據(jù)EDTA是0.05mol/L的標準液而計算的。每次添加補充劑A和C按照1：1添加，不要超過原始工作槽液鎳金屬含量的 10%以上，如果需要大量添加補充劑，請少量多次添加所需要的補充劑數(shù)量。
