LP 606 工藝特征

　　1.溶液穩定性好，可以循環使用，使用壽命達到6-10循環，1個循環的含義是每升鍍液將全部鎳鍍出再補充到原來的鎳含量稱為1M.T.O.。

　　2.沉積速度快，達到12-18μm/hr, 提高了生產效率。

　　3.鍍層外觀潔白。

　　4.鍍層附著力高。

　　5.對復雜零件具有優異的均鍍能力。

　　6.鍍層孔隙率低。

　　7.操作簡單，使用方便。

　　8.優異的耐磨性能，經熱處理鍍層硬度可達900-1000 VHN100。

　　LP 606 是一種先進的環保低磷化學鎳工藝。本產品可保持溶液良好的穩定性及緩和的電鍍速率，可在經過適當預處理的表面上產生優異性能的鍍層。本工藝適用于非常廣泛的電鍍底材，可在其上產生均勻的鎳磷合金鍍層。這些底材包括：鋁合金，不銹鋼，碳，合金鋼，銅合金等，以及一些非電導塑料/陶瓷材料。

　　LP 606 適用于有優良防腐性要求的電鍍。主要包適電子工業，石油氣，印刷，由于它耐污染性良好，尤其適用于食品中肉類處理工業及醫學中的外科手術器具。鍍層易于焊接。鍍層經過適當處理可以代替硬鉻。

　　物理性質

　　磷含量，wt%： 1~4

　　熔點(共晶)，℃： 1100

　　熱膨脹系數，um/m/℃： 13~15

　　熱導性，cal/cm/s/℃： 0.0105

　　電阻，micro-ohm/cm： 20~30 (鍍后)

　　10~25(熱處理后)

　　磁性 順磁性

　　硬度

　　knoop 硬度kg/mm2

　　50g 裝載, 76.2μm鍍層, 鋼

　　電鍍后 690~750

　　熱處理后

　　1小時, 400℃ 860~940

　　開缸

　　添加物

　　LP 606A 60ml/L

　　LP 606M 150ml/L

　　去離子水或蒸餾水 余量

　　開缸

　　1. 用去離子或蒸餾水徹底清洗鍍槽。

　　2. 在槽中加入部分去離子或蒸餾水。

　　3. 邊攪拌(空氣或機械)邊加入所需量的LP 606A 和 LP 606M，加水至工作體積。

　　4. 加熱溶液至75 ~85℃，測量溶液pH值，調至7.5-8.

　　溶液操作

　　施鍍

　　經過適當準備后, 把工件浸入工作液中至達到所需厚度。

　　攪拌

　　水平桿攪拌或低壓空氣攪拌。攪拌程度取決于裝載量及溫度。

　　溫度

　　高溫可提高鍍速，當需要鍍層較厚時，建議采用低溫攪拌以防出現針孔。不工作時，不要使工作液維持在操作溫度，否則會使還原劑和穩定劑分解。不要使溫度超過85℃

　　過濾

　　建議采用連續過濾。用5微米的過濾介質。若連續過濾不可行，則工作結束后，冷卻溶液，然后，在開始第二天的工作前，用3微米的過濾介質分批過濾。

　　設備

　　適合于熱堿性化學鎳溶液的設備都適用于LP 606 鍍液。

　　使用0.2~0.3mm 厚PVC襯里的槽可防止鎳沉積在不銹鋼槽上。建議采用PP 或襯PP的槽?？捎脦в羞^熱保護的蒸汽式TEFLON 特級線圈加熱器或316型不銹鋼電子浸入式加熱器。建議采用低溶液水平槽。且有內置過濾器。采用低壓潔凈空氣攪拌。

　　采用通風排出水蒸汽和攪拌及溶液汽化產生的薄霧。薄霧中可能含有鎳鹽。不工作時，工作液應蓋上蓋子，并使之在操作溫度或接近操作溫度。

特別聲明

　　此說明書內所有提議或關于本公司產品的建議，是以本公司信賴的實驗及資料為基礎。因不能控制其他從業者的實際操作，故本公司不能保證及負責任何不良后果。此說明書內的所有資料也不能用為侵犯版權的證據。