HP422 工藝特征

　　· 耐腐蝕性優(yōu)良

　　· 壓應(yīng)力

　　· 適合于高復(fù)合應(yīng)用

　　· 良好的潤滑性及耐磨損性能

　　· 適合焊接

　　· 穩(wěn)定性好，壽命長

　　· 非磁性鍍層

　　HP422 是一種先進(jìn)的環(huán)保高磷化學(xué)鎳工藝，采用非硫脲系穩(wěn)定劑，鍍層中無硫成份存在，所以防腐性能特佳。用于許多工程和功能性應(yīng)用上，可產(chǎn)生性能優(yōu)異的鍍層。本產(chǎn)品可保持溶液良好的穩(wěn)定性及緩和的電鍍速率，可在經(jīng)過適當(dāng)預(yù)處理的表面上產(chǎn)生優(yōu)異性能的鍍層。本工藝適用于非常廣泛的電鍍底材，可在其上產(chǎn)生均勻的鎳磷合金鍍層。這些底材包括：鋁合金，不銹鋼，碳，合金鋼，銅合金等，以及一些非電導(dǎo)材料。

　　HP422 適用于有優(yōu)良防腐性要求的電鍍。主要包適電子工業(yè)，石油氣，印刷，由于它耐污染性良好，尤其適用于食品中肉類處理工業(yè)及醫(yī)學(xué)中的外科手術(shù)器具。鍍層易于焊接。鍍層經(jīng)過適當(dāng)處理可以代替硬鉻。

　　HP422 工藝滿足MIL-C-26074和 AMS 2404 的技術(shù)指標(biāo)。本工藝可提供非自我調(diào)節(jié)pH工藝。HP 422A和HP 422M用作開缸;HP 422A，HP 422B和 HP 422C 用于補(bǔ)充(1:1:1)，HP 422C為pH調(diào)整劑，可用8% AR級氨水代替。

　　物理性質(zhì)

　　磷含量，wt% >10.5

　　熔點(共晶)，℃ 880

　　熱膨脹系數(shù)，um/m/℃ 13~15

　　熱導(dǎo)性，cal/cm/s/℃ 0.0105

　　電阻，微歐姆-cm 50~100

　　磁性 非磁性

　　硬度

　　knoop 硬度kg/mm2

　　50g 裝載, 76.2μm鍍層, 鋼

　　電鍍后 520~580

　　熱處理后

　　4小時, 177℃ 600~720

　　1小時, 400℃ 850~900

　　耐磨性能

　　Taber 研磨器耐磨試驗

　　重量損失指數(shù), mg/1000次循環(huán)操作

　　電鍍后 15~18

　　熱處理后(1小時, 400℃) 4 ~ 8

　　腐蝕性能

　　鹽霧試驗 (ASTM B117)

　　35℃, 5% NaCl, 25.4μm鍍層

　　開始出現(xiàn)腐蝕時間 (小時)

　　2024 鋁 1000+

　　1010 碳鋼 1000+

　　硝酸測試

　　濃硝酸, 42°Be, 30秒, 室溫, 25.4μm, 鋼表面 通過**

　　鹽酸測試

　　50% HCl, 3分鐘, 25.4μm, 鋼表面 通過**

　　+ ASTM 試驗在平板上進(jìn)行, 復(fù)雜形狀和表面粗糙的物體在短時間內(nèi)就會產(chǎn)生斑點。ASTM B117 鹽霧試驗主要是性能試驗，用來顯示不同工藝之間的差異。它不是防腐性能定量試驗。

　　** 鍍層上出現(xiàn)任何污點都視為不通過。

　　開缸

　　添加物

　　HP 422A 60ml/L

　　HP 422M 180ml/L

　　去離子水或蒸餾水 余量

　　開缸

　　1. 用去離子或蒸餾水徹底清洗鍍槽。

　　2. 在槽中加入部分去離子或蒸餾水。

　　3. 邊攪拌(空氣或機(jī)械)邊加入所需量的HP 422A 和 HP 422M，加水至工作體積。

　　4. 加熱溶液至85 ~91℃，測量溶液pH值，如有必要，用50% 稀氨水或碳酸鉀調(diào)節(jié)。通常HP 422 工藝在pH值較低下開缸，若電鍍前未進(jìn)行pH的調(diào)節(jié)，則會導(dǎo)致鍍層模糊甚至反應(yīng)不起動。

　　溶液操作

　　如果工件為鋁件，3個周期后注意鎳含量不能高于5.8 g/L，pH不能高于4.8

　　施鍍

　　經(jīng)過適當(dāng)準(zhǔn)備后, 把工件浸入工作液中至達(dá)到所需厚度。

　　攪拌

　　水平桿攪拌或低壓空氣攪拌。攪拌程度取決于裝載量及溫度。

　　溫度

　　高溫可提高鍍速，當(dāng)需要鍍層較厚時，建議采用低溫攪拌以防出現(xiàn)針孔。不工作時，不要使工作液維持在操作溫度，否則會使還原劑和穩(wěn)定劑分解。不要使溫度超過91℃

　　過濾

　　建議采用連續(xù)過濾。用5微米的過濾介質(zhì)。若連續(xù)過濾不可行，則工作結(jié)束后，冷卻溶液，然后，在開始第二天的工作前，用3微米的過濾介質(zhì)分批過濾。

　　pH調(diào)節(jié)

　　用稀(50%)氨水或碳酸鉀溶液(50%)升高pH值;用10%硫酸降低pH值。加入以上藥品時，要在攪拌下慢慢加入。

　　當(dāng)用碳酸鉀調(diào)節(jié)pH時，大約經(jīng)過7~8個金屬循環(huán)后，溶液中會產(chǎn)生白色晶體沉淀物(硫酸鉀)，尤其容易發(fā)生在溶液冷卻過程中。這表明溶液已老化。注：這種情況并不是問題，只需將沉淀物倒出即可。

　　工作液性能

　　鍍速，μm/小時, 88℃ 12~15

　　溶液壽命, 循環(huán)次數(shù)*

　　鋼 7~10(視產(chǎn)品要求)

　　鋁

　　· 用碳酸鉀溶液調(diào)節(jié) 5~8

　　· CT 100 作底層 8~10

　　覆蓋能力，μm2/L

　　5個金屬循環(huán) 1148.8

　　10個金屬循環(huán) 2212.7

　　* 當(dāng)補(bǔ)充金屬濃度達(dá)到最初的5.5g/L鎳, 為一個金屬循環(huán)。

　　設(shè)備

　　適合于熱酸性化學(xué)鎳溶液的設(shè)備都適用于HP 422 鍍液。

　　使用0.2~0.3mm 厚PVC襯里的槽可防止鎳沉積在不銹鋼槽上。建議采用PP 或襯PP的槽。可用帶有過熱保護(hù)的蒸汽式TEFLON 特級線圈加熱器或316型不銹鋼電子浸入式加熱器。建議采用低溶液水平槽。且有內(nèi)置過濾器。采用

　　低壓潔凈空氣攪拌。

　　采用通風(fēng)排出水蒸汽和攪拌及溶液汽化產(chǎn)生的薄霧。薄霧中可能含有鎳鹽。不工作時，工作液應(yīng)蓋上蓋子，并使之在操作溫度或接近操作溫度。

　　廢物處理

　　HP 422 工作液為酸性，含有鎳。廢液排放前，應(yīng)將鎳從溶液中除掉，并調(diào)節(jié)pH值在限定范圍內(nèi)。確保排放的廢液中pH及鎳含量符合當(dāng)?shù)匾?guī)定。

聲明

　　此說明書內(nèi)的內(nèi)容或關(guān)于本公司產(chǎn)品的建議，是根據(jù)本公司信賴的實驗及資料為標(biāo)準(zhǔn)。因不能控制其他從業(yè)者的實際操作，本公司不能保證及負(fù)責(zé)任何不良后果。此說明書內(nèi)的所有資料也不能作為侵犯版權(quán)的證據(jù)。此說明書提供給顧客作為單獨使用本公司產(chǎn)品和工藝時用。